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工艺过程装备

FLAG系列磁控溅射系统
◆FLAG系列磁控溅射系统通过共焦超高真空阴极，制备各类金属及其合金、非金属单层膜、多层膜和掺杂膜系；
广泛应用于半导体、微电子、材料等相关工业应用领域；

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