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JCP型高真空多靶磁控溅射系统

小型磁控溅射系统通过共焦超高真空阴极，制备各类金属及其合金、非金属单层膜、多层膜和掺杂膜系，广泛应用于半导体、微电子、材料等相关工业应用领域。

模块设计，结构紧凑易于扩展；实时监测，运行数据在线显示；自动化高，一键启动；灵活度高，工艺配方自由设置；功能性强，支持多种薄膜制备；稳定性好，成膜高效质量可靠。

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